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芯片被称为工业时代的粮食，而光刻机这项造芯的关键设备，则被称之为工业皇冠上的明珠，它在半导体芯片产业链中扮演着不可或缺的角色，尤其是EUV光刻机，几乎掌握着5nm以下制程高端芯片的命脉。

ASML作为全球最先进的光刻厂商，不仅在中高端光刻领域有着垄断级别的地位，即便是在中低端光刻市场，ASML凭借着成熟先进的技术，依然是毫无对手的存在。可惜的是，ASML产线上含有大量美国配件，在老美的阻挠下，它始终无法对我们出口最先进的EUV设备。

为了突破美芯的封锁，在我国决定自研光刻机，并派出了科研团队赴荷兰ASML总部“取经”。没想到换来的却是冷嘲热讽，ASML技术首席官表示，即便是EUV的图纸给中国，你们也造不出来。

有业内人士分析，ASML之所以泼冷水来打击我们研发EUV的积极性，绝非只是因为EUV过于复杂，而是有着自己的私心：因为一旦我们完成了突破，它或将会被排除在中国市场之外，更关键的是，这会导致它不再具有唯一性，其市场地位也将受到冲击。

不可否认，EUV涉及的技术产业链非常广泛，其所需的精密配件超过10万个，需要从55个国家的5000多家供应商采购，仅凭我们一己之力的确不容易完成。

但事实证明，王传福说得没错：再尖端的设备也是人造的，而非神造的。在中科院、清北高校等科研机构，以及上海微电子、长春光机所等光刻厂商的协同努力下，近几年国产光刻机不断传出着破冰的好消息，数字光刻机、先进封测光刻机等先后实现了量产。

面对这样的情况，ASML再也坐不住了，一方面对老美发出警告，称如果不把EUV光刻机卖给中国，他们将在五年之后完全掌握该技术，届时，ASML可能有破产的风险。

另一方面，ASML加大了在我国市场的投资布局，开始大规模的出售其他不受限制的光刻产品，并密集申请了约3000项光刻专利。

从表面上，对现阶段处于爬坡过程的国产芯片产业而言，虽然没有EUV，但ASML所提供的其他设备，也同样能对水涨船高的国内芯片需求市场起到一定缓解和推动的作用。可真实情况显然没有这么乐观。

我们未来所要面对的不只是光刻专利壁垒，有网友还指出，西方企业的一贯作风是：对我们没有突破的技术设备，他们往往会实施封锁或是进行溢价，而一旦我们即将完成相应的突破，他们又会降价倾销，提前抢占市场。

对比曾经盾构机的教训，如今ASML在中低端光刻领域的举动可谓是如出一辙。

如果国内芯片厂商扛不住价格诱惑而大批采购ASML的产品，那么国产光刻机势必会面临市场压力，没有利润回流，中企光刻供应商就会失去提高研发的粮食，久而久之，很可能会形成恶性循环。

果然，担心的情况还是发生了。近日，国内芯片厂商积塔半导体公布了对光刻设备采购的最终招标结果。资料显示，ASML包揽了全部的3台光刻设备订单，一台是Krf光刻机，另外两台是i-line光刻机。

值得强调的是，这三台光刻设备类型并不是非常先进的前道设备，而上海微电子等国内光刻厂商也已经实现了突破和量产。可如今与ASML同台竞技，即便是中企的招标，国内光刻厂商却依然全都遗憾落选，国产光刻机此次更是颗粒无收。

或许很多人表示不可思议，难道真的是因为价格问题，才让积塔半导体会舍近求远选择ASML的产品？

在国产化替代的潮流下，中国芯片厂商并非不清楚支持国产光刻设备的重大意义，但芯片制造属于重资产领域，“一代芯片、一代设备”是行业共识，晶圆厂在设备方面的投资达到了总成本的80%以上。

因此，他们在价格昂贵的设备采购选择上，不敢轻易试错，否则，要付出的代价是难以想象的。何况，积塔半导体仅成立了五年时间，也几乎没有试错的资本。

这是否意味着国产光刻机的努力白费了呢？很显然，并非如此。

虽然在光刻设备选择上我们落了下风，可在与光刻机密切相关的辅助设备方面，中企却是收获满满。比如工艺检测设备，上海微电子包揽了全部的四台，ASML却连一个都没中。

由此不难看出，在部分光刻技术领域，中企已经达到了比肩甚至超越ASML的水平国内的努力没有白费。值得强调的是，在积塔的此次招标中，刻蚀机、清洗和抛光设备的采购绝大部分都来自于国产，这些都是晶圆制造不可或缺的环节，与光刻设备同样重要。

其实国产光刻机设备的此次落选其实并非坏事，至少我们看到的问题出在哪儿？一方面是来自于海外企业在价格方面的挤压，另一方面则是我们自身在核心技术方面还需进一步加强。

或许国内光刻厂商可以学习ASML的成长模式。ASML之所以能在光刻领域脱颖而出，是因为它与台积电、英特尔等下游客户达成了共同研发的协议，在深度绑定的合作前提下，不仅技术提升迅速，而且这些客户也几乎不会去采购其他厂商的设备。

如果国内芯片、设备厂商也能够这样抱团取暖，背靠着国内庞大的芯片消费市场，也许真能收获奇效。

对此，你们怎么看？

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